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射频溅射法制备Pb1—xCoxSe薄膜及物性研究
引用本文:黄良安,周正国.射频溅射法制备Pb1—xCoxSe薄膜及物性研究[J].武汉大学学报(自然科学版),1999,45(3):331-334.
作者姓名:黄良安  周正国
作者单位:武汉大学物理学系
摘    要:利用复合靶共溅射法制备了半磁性半导体Pb1-xCoxSe薄膜研究了薄膜的成分结构以及电阻率-温度特性和磁化率温度特性间的关系,结果表明,由于Co离子介入,Pb1-xCoxSe发生了由金属特性的向半导体特性的转变,在充分低的温度下,并伴有磁相转变,磁相转变温度与磁性离子浓度相关,磁化率的相对变化幅度与磁性离子浓度有关。

关 键 词:半磁性半导体  电阻率  物性  射频溅射法  薄膜
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