| 磁控溅射类金刚石碳膜的显微硬度 |
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| 引用本文： | 吕反修,杨金旗.磁控溅射类金刚石碳膜的显微硬度[J].北京科技大学学报,1991,13(6):548-553. |
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| 作者姓名： | 吕反修 杨金旗 |
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| 作者单位： | 北京科技大学材料科学与工程系
(吕反修，杨金旗，杨保雄)，北京科技大学材料科学与工程系(叶锐曾) |
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| 摘 要： | 采用显微硬度测试方法,研究在单晶硅衬底上沉积厚度仅为0.09-0.56μm的磁控溅射类金刚石碳膜的力学性能。结果表明,溅射碳膜的硬度随溅射工艺参数呈规律性变化,且可以和碳膜的类金刚石性质以及碳膜结构的SP~3和SP~2成分的变化相联系。采用Johnson复合硬度模型进行的分析表明,溅射碳膜的真实硬度在HV6000-6600之间,比天然金刚石的硬度略低。溅射类金刚石碳膜具有明显的压痕尺寸效应(ISE),其指数约为m=1.9。
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| 关 键 词： | 显微硬度 类金刚石 薄膜 碳膜 溅射 |
Microhardness of Magnetron Sputtered Diamond-like Thin Carbon Films |
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| Lu Fanxiu Yang finqi Yang Baoxiong Ye Ruizeng.Microhardness of Magnetron Sputtered Diamond-like Thin Carbon Films[J].Journal of University of Science and Technology Beijing,1991,13(6):548-553. |
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| Authors: | Lu Fanxiu Yang finqi Yang Baoxiong Ye Ruizeng |
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| Institution: | Lu Fanxiu Yang finqi Yang Baoxiong Ye Ruizeng Department of Materials Science and Engineering |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | microhardness thin film diamond-like carbon film true hardness indentation size effect |
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