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N离子注入金刚石膜方法合成的CNx膜的成键结构
作者单位:曹培江(吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春130023);姜志刚(吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春 130023);李俊杰(吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春 130023);金曾孙(吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春 130023);王欣(吉林大学材料科学系,长春 130023);郑伟涛(吉林大学材料科学系,长春 130023);牟宗信(三束材料表面改性国家重点实验室,大连理工大学,大连116024);董闯(三束材料表面改性国家重点实验室,大连理工大学,大连116024);李哲奎(延边大学理工学院物理系,延吉 133002)
基金项目:中国教育部优秀中青年项目和吉林省科学技术委员会计划发展基金项目(批准号:980544).
摘    要:使用N离子(能量分别为10keV,60keV)注入金刚石膜方法合成CNx膜,用Raman光谱和XPS光谱研究注入前后金刚石膜的成键结构.结果表明,金刚石膜经10keVN离子注入后,在Raman光谱中出现一个较强的金刚石峰(1332cm-1)和一个弱的石墨峰(G带,~1550cm-1).而XPSN15资料显示两个主峰分别位于~398.5eV和~400.0eV.金刚石膜经60keVN离子注入后,N15XPS光谱中的主峰位于~400.0eV;相应地,Raman光谱中的石墨峰变得较强.通过比较,对注入样品的XPS谱中N15的成键结构作如下归属~400.0eV属于sp2C-N键;~398.5eV则属于sp3C-N键.

关 键 词:N离子注入  金刚石  成键结构
文章编号:0529-0279(2001)02-0049-04
修稿时间:2000-11-20

Bonding Structure of CNx Films Synthesized by Implanting Nitrogen intoDiamond Films
Abstract:
Keywords:
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