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| 氧气等离子体处理对铟锡氧化物薄膜表面性质的影响（英文） | |
| 作者单位： | ;1.中南民族大学实验教学与实验室管理中心;2.中南民族大学电子信息工程学院 |
| 摘 要： | 采用氧气等离子体处理对铟锡氧化物(ITO)薄膜进行表面改性,基于化学组分、接触角、表面能和极性度的测试表征,研究了氧气等离子体处理对ITO表面性质的影响以及表面性能随放置时间的变化.实验结果表明:氧气等离子体处理有效去除了ITO表面的污染物,改善了ITO表面的化学组分、提高了表面能、极性度和润湿性,从而优化了ITO的表面性能.但是随着处理后放置时间的增加,ITO薄膜的表面能减小、极性度降低、润湿性退化,从而相应的表面性能也变差. |
| 关 键 词： | 铟锡氧化物 氧气等离子体处理 表面性质 |
Influence of oxygen plasma treatment on the surface properties of indium-tin oxide thin films |
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