一种基于金属电极的纳米线阵列的生长方法

该发明属于微电子工艺领域和仪器仪表技术领域,特别涉及一种基于金属电极的纳米线阵列的生长方法。该发明方法步骤包括:步骤1,在多孔模板两侧分别制作电极A和电极B,其中电极B需确保不会堵塞多孔模板的孔洞;所述电极A为溅射得到的金属电极,所述电极B为溅射得到的金属电极;步骤2,电极A和电极B分别与电源相连,并浸入装有电解液的溶液槽中,直至生长出均匀的纳米线阵列。相比于采用化学机械抛光来保证纳米线长度的一致性的方法,该发明方法对于纳米线的长度控制更加简单易行,不再需要抛光工艺介入。同时,该发明所提供的工艺途径避免了抛光过程对多孔模板的损伤,有利于良品率的提高。