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| 直流反应磁控溅射制备Cu2O薄膜 | |
| 引用本文： | 朱海玲. 直流反应磁控溅射制备Cu2O薄膜[J]. 潍坊学院学报, 2010, 10(4): 111-114 |
| 作者姓名： | 朱海玲 |
| 作者单位： | 潍坊学院,山东,潍坊,261061 |
| 摘 要： | 采用直流反应磁控溅射的方法,在石英衬底上制备Cu2O纳米薄膜,研究了工艺因素中的溅射气压、氧分压、气体流量、溅射功率对薄膜结构、形貌的影响,从而确定了最佳溅射条件。 |
| 关 键 词： | 直流反应磁控溅射 气体流量 溅射功率 溅射压力 Cu2O薄膜 |
The Cu2O Thin Films Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering |
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| ZHU Hai-ling. The Cu2O Thin Films Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering[J]. Journal of Weifang University, 2010, 10(4): 111-114 | |
| Authors: | ZHU Hai-ling |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
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