| 溅射沉积TiO_2薄膜结构及性能的基础研究 |
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| 引用本文： | 吉亚萍,张琳琳,李鹏,侯兴刚,黄美东.溅射沉积TiO_2薄膜结构及性能的基础研究[J].天津师范大学学报(自然科学版),2010,30(1). |
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| 作者姓名： | 吉亚萍 张琳琳 李鹏 侯兴刚 黄美东 |
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| 作者单位： | 1. 天津师范大学,物理与电子信息学院,天津,300387
2. 天津师范大学,物理与电子信息学院,天津,300387;北京师范大学,射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京,100875 |
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| 基金项目： | 教育部留学回国科研启动基金资助项目，天津师范大学中青年教师学术创新资助项目 |
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| 摘 要： | 采用超高真空反应射频磁控溅射方法,利用高纯Ti靶在光学玻璃基底上制备具有一定厚度的TiO2薄膜样品.通过扫描探针显微镜对其表面形貌进行观测和分析,利用XRD初步探讨了退火对薄膜结构及其透射率的影响,并研究了不同O2/Ar流量比对薄膜沉积速率的影响.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 TiO2薄膜 退火 |
Basic studies on the microstructure of TiO2 thin films fabricated by sputtering |
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| JI Yaping,ZHANG Linlin,LI Peng,HOU Xinggang,HUANG Meidong.Basic studies on the microstructure of TiO2 thin films fabricated by sputtering[J].Journal of Tianjin Normal University(Natural Science Edition),2010,30(1). |
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| Authors: | JI Yaping ZHANG Linlin LI Peng HOU Xinggang HUANG Meidong |
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