| 脉冲电子束照射下材料表面熔化深度的数值解析 |
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| 引用本文： | 许洪斌,胡建军,陈元芳,李登波.脉冲电子束照射下材料表面熔化深度的数值解析[J].重庆大学学报(自然科学版),2008,31(12):1351-1354. |
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| 作者姓名： | 许洪斌 胡建军 陈元芳 李登波 |
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| 作者单位： | 重庆工学院材料学院;重庆铁马工业集团有限公司; |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目
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重庆市科技攻关项目
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重庆市重点自然科学基金资助项目
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重庆市教委应用基础项目
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| 摘 要： | 根据温度场热传导基本方程,建立用于脉冲电子束加工的有限元模型,提出一种脉冲电子束对材料表面熔化深度进行数值解析的方法.采用均匀体热源的热加载方式,对电子束熔化材料表面后的温度场进行数值解析,分析不同加速电压、电子束能量密度以及能量均匀性对材料熔化深度的影响,归纳了能量均匀度0.9～1.0、能量密度2～17 J/ cm2、加速电压25～50 kV情况下材料表面熔化深度曲线,得到了表面熔化层深的变化规律,为电子束对模具表面精密光整加工提供了理论依据.
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| 关 键 词： | 脉冲电子束 数值解析 温度场 有限元法 |
Numerical analysis of material surface thaw depth under pulsed electron beam irradiation |
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| XU Hong-bin,HU Jian-jun,CHEN Yuan-fang,LI Deng-bo.Numerical analysis of material surface thaw depth under pulsed electron beam irradiation[J].Journal of Chongqing University(Natural Science Edition),2008,31(12):1351-1354. |
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| Authors: | XU Hong-bin HU Jian-jun CHEN Yuan-fang LI Deng-bo |
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| Institution: | XU Hong-bin1,HU Jian-jun1,CHEN Yuan-fang1,LI Deng-bo2(1.Department of Materials,Chongqing Institute of Technology,Chongqing 400050,P.R.China,2.Chongqing Tiema Industries Corporation,P.R.China) |
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| Abstract: | We developed a finite element method model.An equality heat source was used to thaw metal with an electron beam in numerical analysis.The temperature field was obtained after the metal thawed with electron beam by numerical analysis.The influence of the material thaw depth was analyzed at differing voltages,energy densities,and energy evenness.A thaw depth diagram was obtained where energy evenness is from 0.9 to 1.0,energy density is from 2 J/cm2 to 17 J/cm2,and voltage is from 25 kV to 50 kV.The change ru... |
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| Keywords: | pulsed electron beam numerical analysis temperature field finite element method |
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