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硅二极管I—V特性及二次击穿计算
引用本文:余稳,蔡新华.硅二极管I—V特性及二次击穿计算[J].常德师范学院学报(自然科学版),2000,12(3):31-33.
作者姓名:余稳  蔡新华
作者单位:常德师范学院电子学研究所,湖南常德
摘    要:利用时域有限差分方法,求解了一维半导体器件内总裁 流子所满足的耦合、非线性、刚性偏微分方程组。得出了发生二次击穿的判据应以空穴电离率为准,而不是通常认为的以电子电离率为准的结论,并构造了一种准确,快捷地计算半导体器件反偏I-V特性曲线的方法。

关 键 词:硅二极管  I-V特性  二次击穿  时域有限差分
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