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| 热处理工艺对KTa0.65Nb0.35O3薄膜结晶学性能的影响 | |
| 作者姓名： | 王世敏() 赵建洪() 王龙海() 张刚升() 张端明() 李佐宜() 刘素玲() 赖建军() |
| 作者单位： | [1]湖北大学压电陶瓷技术研究所 [2]华中理工大学固体电子学系 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(批准号:59302015) |
| 摘 要： | 钽铌酸钾(KTa_(1-x)Nb_xO_3,简称KTN),铁电与顺电相变温度(T_c)可通过改变钽铌比调节,将T_c调节到近室温附近,其晶体具有良好的热释电、电光和非线性光学性质,可用于热释电探测器、电光调制器、电光偏转器、全息存贮等,其薄膜可用于光电子器件和集成光学器件中.当x=0.35时,KTN在无机材料中具有最大的二次电光系数.我们用Sol-Gel法制备了其沿(100)、(111)取向生长的薄膜.薄膜的结晶学性能对薄膜的电学、光学和电光性能有很大的影响,如焦绿石结构相的存在,使KTN薄膜失去铁电性.另外,薄膜的Curie温度(T_c)升高,介电温谱峰竞化,剩余极化强度降低,电滞回线变窄等,不仅与尺寸效应、衬底对薄膜的应力有关,而且与薄膜的结晶学性能有关.本文研究了热处理工艺对薄膜的结晶学性能的影响. |
| 关 键 词： | 薄膜 热处理 结晶学性能 钽铌酸钾 |
| 收稿时间： | 1996-05-07 |
| 修稿时间： | 1996-10-03 |
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