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| 硅表层扩散杂质在CW-CO_2激光辐照后的电激活特性 | |
| 引用本文： | 张玉峰,杜永昌,李大军,李元恒.硅表层扩散杂质在CW-CO_2激光辐照后的电激活特性[J].北京大学学报(自然科学版),1984(5). |
| 作者姓名： | 张玉峰 杜永昌 李大军 李元恒 |
| 作者单位： | 北京大学物理系 (张玉峰，杜永昌，李大军)，中国科学院力学研究所(李元恒) |
| 摘 要： | 本文研究了硅中高温扩散硼和磷样品在CW-CO_2激光作用下薄层电阻、载流子面密度、迁移率和表面薄层(450)载流子浓度的变化。经过激光处理后样品表面一薄层载流子浓度超过了杂质的固溶度极限。通过高温热退火和再次激光辐照研究了“超固溶度”的不稳定性。同时对样品的正面和背面激光辐照对载流子的电激活效果作了比较。 |
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