| 沉积功率对溅射制备镓镁共掺杂氧化锌薄膜光学和电学性能的影响（英文） |
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| 引用本文： | 钟志有,万鑫,顾锦华,龙浩,杨春勇,陈首部.沉积功率对溅射制备镓镁共掺杂氧化锌薄膜光学和电学性能的影响（英文）[J].中南民族大学学报(自然科学版),2023(6):809-818. |
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| 作者姓名： | 钟志有 万鑫 顾锦华 龙浩 杨春勇 陈首部 |
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| 作者单位： | 1. 中南民族大学电子信息工程学院;2. 中南民族大学智能无线通信湖北省重点实验室;3. 中南民族大学实验教学与工程训练中心 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目（12075322）； |
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| 摘 要： | 采用控溅射工艺制备了镓镁掺杂氧化锌(Zn O:Ga-Mg)透明导电薄膜，通过多种表征技术研究了沉积功率对薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响.实验结果表明，所有薄膜均为六角纤锌矿结构并且具有c轴择优取向生长特点，并且沉积功率明显影响薄膜的性能.沉积功率为150 W时所制备的Zn O:Ga-Mg薄膜具有最好的结晶质量和光电性能，对应的平均可见光透过率为92.2%、电阻率为1.18×10-3Ω·cm、品质因数为1.04×104Ω-1·cm-1、晶格应变为1.95×10-3、位错密度为1.17×1015 m-2.另外，利用光学表征方法获得了Zn O:Ga-Mg薄膜的光学常数，同时根据单振子WDD模型研究了薄膜的光学色散性质，得到了薄膜的振子参数、非线性光学常数和光学能隙.研究结果表明沉积功率是影响Zn O:Ga-Mg薄膜结构和光电性能的最重要的工艺参数之一.
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| 关 键 词： | 氧化锌 薄膜 掺杂 光电性能 |
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