| 基于双显微视觉的光刻版位姿定位算法 |
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| 引用本文： | 吕红阳,陈立国,仲丁元,薛立伟.基于双显微视觉的光刻版位姿定位算法[J].科学技术与工程,2020,20(32):13295-13301. |
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| 作者姓名： | 吕红阳 陈立国 仲丁元 薛立伟 |
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| 作者单位： | 苏州大学机电工程学院机器人与微系统研究中心, 苏州215021;苏州大学机电工程学院机器人与微系统研究中心, 苏州215021;苏州大学机电工程学院机器人与微系统研究中心, 苏州215021;苏州大学机电工程学院机器人与微系统研究中心, 苏州215021 |
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| 基金项目： | 江苏省高校自然科学研究项目（项目编号：17KJA460008） |
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| 摘 要： | 光刻版工件移动位姿的精确定位及调整是完成其视觉对位的关键。本文针对光刻版工件跨尺度级高精度对位的难点,搭建了双显微视觉对位系统,通过双显微视觉的局部位姿检测,解决了工件尺寸与定位精度之间的矛盾。具体方法为：首先采用双显微视觉获取工件两端局部图像；接着提出改进Canny算法并基于多项式插值的边缘细分完成亚像素级边缘轮廓提取；然后基于RANSAC算法拟合边缘轮廓,获得左右相机图像中“Mark”标志中心点位置坐标及偏转角度；最后通过推导局部位姿间数学关系完成光刻版工件的精确位姿定位。实验结果表明：所设计的视觉算法对于0.5 mm平行线的距离检测精度达1.93 μm、角度提取精度达0.018°；对于光刻版的移动位姿的定位精度达0.64 μm,能满足视觉对位过程中高速高精度的定位需求。
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| 关 键 词： | 视觉对位 亚像素边缘检测 RANSAC算法 位姿检测 |
| 收稿时间： | 2020/3/17 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2020/7/28 0:00:00 |
Research on Positioning Algorithm of Lithographic mask posture Based on Binocular Micro-vision |
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| LV Hong-yang,ZHONG Ding-yuan,XUE Li-wei.Research on Positioning Algorithm of Lithographic mask posture Based on Binocular Micro-vision[J].Science Technology and Engineering,2020,20(32):13295-13301. |
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| Authors: | LV Hong-yang ZHONG Ding-yuan XUE Li-wei |
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| Institution: | School of Mechanical And Electrical Engineering, Soochow University,,School of Mechanical And Electrical Engineering, Soochow University, |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Visual alignment Sub-pixel edge detection RANSAC algorithm Posture detection |
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