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| 基底预处理对水热法制备SnO2纳米阵列生长的影响 | |
| 引用本文： | 王亚丽,郭敏,张梅,彭犇,王习东.基底预处理对水热法制备SnO2纳米阵列生长的影响[J].北京科技大学学报,2010,32(4). |
| 作者姓名： | 王亚丽 郭敏 张梅 彭犇 王习东 |
| 作者单位： | 1. 北京科技大学冶金与生态工程学院,北京,100083;上海大学材料科学与工程学院纳米科学与技术研究中心,上海,200444 2. 北京科技大学冶金与生态工程学院,北京,100083 3. 北京大学工学院,北京,100871 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(No.50872011);;国家重点基础研究发展计划资助项目(No.2007CB613608);;教育部新世纪优秀人才支持计划资助项目(No.NCET-07-0071,NCET-08-0723) |
| 摘 要： | 采用水热法,在磁控溅射铺膜后的ITO-基底(MST-基底)上制备出取向一致的SnO2纳米线阵列.用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)等手段对制备的纳米线阵列进行了表征.考察了不同的基底铺膜方式和退火温度对产物形貌、尺寸和取向性的影响.结果表明,不同的基底铺膜方法对产物的形貌和尺寸有较大的影响:在磁控溅射法铺膜的基底上生长出SnO2纳米线阵列;在旋涂法铺膜的基底上生长出SnO2纳米棒阵列;在未铺膜基底上生长出SnO2纳米颗粒薄膜.另外,退火温度对生长在磁控溅射铺膜基底上的产物的取向性有较大的影响,随着退火温度的升高,产物的取向性增强. |
| 关 键 词： | 纳米线 二氧化锡 水热法 阵列 形貌 |
Effect of substrate pretreatments on the growth of SnO2 nanowire arrays by hydrothermal method |
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| WANG Ya-li,GUO Min,ZHANG Mei,PENG Ben,WANG Xi-dong.Effect of substrate pretreatments on the growth of SnO2 nanowire arrays by hydrothermal method[J].Journal of University of Science and Technology Beijing,2010,32(4). | |
| Authors: | WANG Ya-li GUO Min ZHANG Mei PENG Ben WANG Xi-dong |
| Abstract: | By using a hydrothermal method,well-aligned SnO2 nanowire arrays were prepared on ITO substrates,which were pretreated by a magnetron sputtering method(MST-substrates).The samples were characterized by X-ray diffraction(XRD),field-emission scanning electron microscopy(SEM),transmission electron microscopy(TEM)and high-resolution transmission electron microscopy(HRTEM).The effects of film-coated methods and annealing temperature on the morphology,size and orientation were studied.The results show that the pr... |
| Keywords: | nanowires tin dioxide hydrothermal method arrays morphology |
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