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GaAs/GaAlAs锁相阵列激光器的研制
引用本文:张喜田,朴友植,等.GaAs/GaAlAs锁相阵列激光器的研制[J].哈尔滨师范大学自然科学学报,1992,8(4):50-52.
作者姓名:张喜田  朴友植
作者单位:[1]哈尔滨师范大学 [2]长春物理所八室
摘    要:用液相外延工艺,光刻工艺,质子轰击工艺研制了GaAs/GaAlAs锁相阵列激光器,该器件是由四个不同条宽激光器组成,它们的条宽是从3um线性地变化到6um,相邻激光器的间距保持常数为5um,,其间的隔离是通过质子轰击实现的,观察到远场为单瓣,平行于p-n结平面发散角(11)为3.13度,接近于理论计算的衍射极限角为3度,器件的脉冲光输出功率为120mw/facet。

关 键 词:半导体激光器  阵列激光器  锁相
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