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光栅刻痕缺陷对衍射光强分布的影响
引用本文:陈万金,陈阳.光栅刻痕缺陷对衍射光强分布的影响[J].吉林师范大学学报(自然科学版),2012(1):32-33.
作者姓名:陈万金  陈阳
作者单位:吉林师范大学物理学院;昆船罗根机场物流系统有限公司
基金项目:吉林省科技发展计划项目(201001113)
摘    要:光栅刻痕缺陷对衍射光强分布的影响是很大的,本文以复式光栅为例进行了深入地分析和讨论,并推导出了相应的理论表达式.

关 键 词:衍射  缺陷  罗兰鬼线  光栅方程  光强分布

Influence of the Grating Nicking Defect on the Distribution of Diffraction Intensity
CHEN Wan-jin,CHEN-Yang.Influence of the Grating Nicking Defect on the Distribution of Diffraction Intensity[J].Jilin Normal University Journal(Natural Science Edition),2012(1):32-33.
Authors:CHEN Wan-jin  CHEN-Yang
Institution:1.College of Physics,Jilin Normal University,Siping 136000,Chi na;2.Kunming Shipbuilding Machinery Co.Ltd,Kunming 650236,China)
Abstract:The defect of the grating nicking affects greatly on the distribution of diffraction intensity.In this paper,as an example to the double grating,it was analyzed and discussed deeply,and the theoretical formula corresponding to it had been deduced.
Keywords:diffraction  defect  Rowland ghosts  grating equation  intensity distribution
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