| 磁场对麦瓦(MEVVA)离子源电荷密度分布的影响 |
| |
| 引用本文： | 刘谦祥,郭希铭,赵杰.磁场对麦瓦(MEVVA)离子源电荷密度分布的影响[J].天津师范大学学报(自然科学版),2003,23(1):59-62. |
| |
| 作者姓名： | 刘谦祥 郭希铭 赵杰 |
| |
| 作者单位： | 天津师范大学,物理与电子信息学院,天津,300074 |
| |
| 基金项目： | 天津市自然科学基金资助项目(023613611) |
| |
| 摘 要： | 为解决麦瓦(MEVVA)离子源束流的径向分布均匀性问题,采取了加入会切磁场的方法.会切磁场的安放位置不同得到束流分布均匀性的程度不同.另外,如安放一纵向磁场对分布的均匀性也有改善,但不如在合适位置安放会切磁场的效果好.
|
| 关 键 词： | MEVVA源 电荷密度 会切磁场 |
| 文章编号： | 1671-1114(2003)01-0059-04 |
| 修稿时间： | 2002年9月15日 |
Influence of Magnetic Field on the Charge Distribution in MEVVA Ion Source |
| |
| Abstract: | In order to improve the charge distribution for MEVVA ion source, a radial magnetic field was introduced. The distribution of ion beam varies with the position and the intensity of the magnetic field. In addition, a magnetic field in anxious direction was also introduced, however, the effect of this field is less than the formal one. |
| |
| Keywords: | MEVVA ion source charge density radial magnetic field |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
