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| Al/α-Si复合膜中非晶硅晶化研究 | |
| 作者姓名： | 蔡伟 万德锐 文秀英 |
| 作者单位： | 四川大学材料科学系(蔡伟)，四川大学分析测试中心(万德锐)，四川大学分析测试中心(文秀英) |
| 摘 要： | 研究了Al/α-Si复合膜中非晶硅的晶化问题.α-Si膜在与Al相接触条件下,其晶化温度下降,在350℃下退火几分钟,产生晶化转变.而单独的α-Si膜的晶化温度是700℃. |
| 关 键 词： | 非晶硅 晶化转变 复合膜 晶化温度 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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