| 电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究 |
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| 引用本文： | 陈光华 杨今漫. 电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究[J]. 兰州大学学报(自然科学版), 1998, 34(3): 44-47 |
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| 作者姓名： | 陈光华 杨今漫 |
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| 作者单位： | [1]北京工业大学应用物理系 [2]兰州大学物理系 |
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| 摘 要： | 利用电弧离子镀技术在不锈钢衬底上沉积了ＴｉＮ，ＴｉＡｌＮ薄膜，并对两种样品分别在大气环境下进行了高温退火。退火前后都做了Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）谱及硬度测量，发现退火后ＴｉＡｌＮ薄膜表面出现Ａｌ２Ｏ３层，该层的出现使ＴｉＡｌＮ薄膜的高温特性大大好于ＴｉＮ涂层，在机械工业中将会有广泛的应用前景。
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| 关 键 词： | 电弧离子镀 TiAlN 氮化钛 薄膜 |
A Study of High Temperature Oxidation of the Arc like Ion Plated TiN and TiAlN Films |
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| a,b) Chen Guanghua. A Study of High Temperature Oxidation of the Arc like Ion Plated TiN and TiAlN Films[J]. Journal of Lanzhou University(Natural Science), 1998, 34(3): 44-47 |
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| Authors: | a b) Chen Guanghua |
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| Keywords: | TiN films TiAlN films Arc like ion X ray diffraction vapour deposition |
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