| 电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究 |
| |
| 引用本文： | 陈光华,杨今漫.电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究[J].兰州大学学报(自然科学版),1998,34(3):44-47. |
| |
| 作者姓名： | 陈光华 杨今漫 |
| |
| 作者单位： | [1]北京工业大学应用物理系 [2]兰州大学物理系 |
| |
| 摘 要： | 利用电弧离子镀技术在不锈钢衬底上沉积了ＴｉＮ，ＴｉＡｌＮ薄膜，并对两种样品分别在大气环境下进行了高温退火。退火前后都做了Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）谱及硬度测量，发现退火后ＴｉＡｌＮ薄膜表面出现Ａｌ２Ｏ３层，该层的出现使ＴｉＡｌＮ薄膜的高温特性大大好于ＴｉＮ涂层，在机械工业中将会有广泛的应用前景。
|
| 关 键 词： | 电弧离子镀 TiAlN 氮化钛 薄膜 |
A Study of High Temperature Oxidation of the Arc like Ion Plated TiN and TiAlN Films |
| |
| a,b Chen Guanghua.A Study of High Temperature Oxidation of the Arc like Ion Plated TiN and TiAlN Films[J].Journal of Lanzhou University(Natural Science),1998,34(3):44-47. |
| |
| Authors: | a b Chen Guanghua |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | TiN films TiAlN films Arc like ion X ray diffraction vapour deposition |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
