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| Na＋和NH4^＋对电沉积W合金的影响 | |
| 引用本文： | 黄丽红,葛洪良. Na＋和NH4^＋对电沉积W合金的影响[J]. 海南大学学报(自然科学版), 2003, 21(3): 238-240 |
| 作者姓名： | 黄丽红 葛洪良 |
| 作者单位： | 黄丽红（中国计量学院,生命科学学院,浙江,杭州,310034）;葛洪良（中国计量学院,物理系,浙江,杭州,310034） |
| 基金项目： | 浙江省自然科学基金青年科技人才专项资金资助项目(RC01056) |
| 摘 要： | 研究了以Na2WO4为W来源、以柠檬酸盐为络合剂的CoW、CoWPt合金电镀中,Na+和NH+4对镀层W含量的影响.结果表明镀层W含量随着溶液中Na+浓度的升高而降低,随着NH+4浓度的升高而增高. |
| 关 键 词： | 电沉积 W合金 钠离子 铵根 |
| 文章编号： | 1004-1729(2003)03-0238-03 |
| 修稿时间： | 2003-04-12 |
+ and NH+4 onElectrodeposited Tungsten Alloys |
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