| 等离子体对材料表面作用机理分析 |
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| 引用本文： | 左安友,袁作彬,翁祝林,熊小勇,杨建平,李兴鳌.等离子体对材料表面作用机理分析[J].湖北民族学院学报(哲学社会科学版),2008,26(2). |
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| 作者姓名： | 左安友 袁作彬 翁祝林 熊小勇 杨建平 李兴鳌 |
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| 作者单位： | [1]湖北民族学院理学院,湖北恩施445000 [2]湖北民族学院信息工程学院,湖北恩施445000 |
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| 摘 要： | 等离子体是由大量的电子、离子、中性粒子组成.等离子体中存在着复杂的原子分子过程以及复杂的物理化学反应,这些粒子和这些复杂的过程作用于材料表面,会使材料表面的结构、成分和性能发生变化.详细分析了等离子体对材料表面作用的过程及机理,并以磁控溅射制备氮化铜薄膜为例,讨论了气体压强和基底温度对薄膜结构的影响.
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| 关 键 词： | 等离子体 表面改性 磁控溅射 氮化铜薄膜 |
Analysis of the Mechanism of the Act of Plasma on the Surface of Material |
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| XUO An-you,YUAN Zou-bin,WANG Zhu-lin,XIONG Xiao-yong,YANG Jian-ping,Li Xing-ao.Analysis of the Mechanism of the Act of Plasma on the Surface of Material[J].Journal of Hubei Institute for Nationalities(Natural Sciences),2008,26(2). |
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| Authors: | XUO An-you YUAN Zou-bin WANG Zhu-lin XIONG Xiao-yong YANG Jian-ping Li Xing-ao |
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