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局部高台阶对注入层全局关键尺寸均匀性的影响
作者姓名:王强  吴庭溪  宋帅迪
作者单位:南通大学信息科学技术学院,江苏南通226019;南通大学信息科学技术学院,江苏南通226019;南通大学信息科学技术学院,江苏南通226019
基金项目:江苏省高等学校自然科学研究重大项目;江苏省成果转化专项资金项目
摘    要:

关 键 词:关键尺寸均匀性  高台阶  注入层  曝光图形  光刻良率
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
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