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| 利用脉冲激光剥蚀技术制备PZT铁电薄膜 | |
| 引用本文： | 白铁城,徐静平.利用脉冲激光剥蚀技术制备PZT铁电薄膜[J].华中科技大学学报(自然科学版),1999,27(4):8. |
| 作者姓名： | 白铁城 徐静平 |
| 作者单位： | 华中理工大学电子科学与技术系 |
| 摘 要： | 利用脉冲激光剥蚀技术在抛光的硅片上制备出了Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３铁电薄膜．经过淀积后的激光退火工艺，大大改善了这种膜的铁电性．研究了影响薄膜性能的多种因素，利用Ｘ射线衍射，分析了薄膜的结构．测量了薄膜的居里温度和电滞回线 |
| 关 键 词： | PZT铁电薄膜 激光剥蚀技术 居里温度 激光退火 钙钛矿 |
| 修稿时间： | 1998-11-30 |
Preparation of Ferroelectric Thin Films of PZT by a Pulsed Laser Ablation Technique |
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| Bai Tiecheng,Xu Jingping.Preparation of Ferroelectric Thin Films of PZT by a Pulsed Laser Ablation Technique[J].JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE,1999,27(4):8. | |
| Authors: | Bai Tiecheng Xu Jingping |
| Abstract: | |
| Keywords: | PZT ferroelectric thin films laser ablation technique Curie temperature laser annealing Perovskite |
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