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电沉积Ni-Fe合金的穆斯堡尔效应
引用本文:葛福云,姚士冰,陈荣钦,陈秉彝,许书楷,周绍民.电沉积Ni-Fe合金的穆斯堡尔效应[J].厦门大学学报(自然科学版),1994(6).
作者姓名:葛福云  姚士冰  陈荣钦  陈秉彝  许书楷  周绍民
基金项目:国家自然科学基金、福建省自然科学基金
摘    要:对电沉积Ni-Fe合金的穆斯堡尔谱分析表明γ相Ni-Fe合金的同质异能移(I.S.)为-0.06~0.02mm/s;α相的I.S为~+0.05mm/s,与冶炼Ni-Fe合金的I.S.(冶炼Ni-Fe合金的γ相I.S为-0.19~-0.22mm/s;α相I.S.为-0.07~0.10mm/s)相比,向正值方向偏移,γ相平均偏移0.18mm/s,α相约0.13mm/s.电沉积Ni-Fe合金的磁超精细场随合金中Fe含量的变化情况与冶炼Ni-Fe合金中的情况不完全一样。此外,还观察到电四极裂矩不等于零,表明电沉积Ni-Fe合金中存在电场梯度.根据镀层合有杂质S和结构缺陷的特点,讨论了上述穆斯堡尔参数的变化情况。

关 键 词:电沉积,Ni-Fe合金,穆斯堡尔效应,电子结构

Mossbauer Effect in Electrodeposited Ni-Fe Alloys
Ge Fuyun.Mossbauer Effect in Electrodeposited Ni-Fe Alloys[J].Journal of Xiamen University(Natural Science),1994(6).
Authors:Ge Fuyun
Institution:Ge Fuyun(Cen.of Analysis and Testing)Yao Shiping;Chen Rongqin;Chen Bingyi;Xu Shukai; Zhou Shaomin(1Dept.of Chem.2Dept of Pgys.)
Abstract:
Keywords:Electrodeposition  Mossbauer effect  Ni-Fe alloy  Electronic struc-ture  
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