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| 射频溅射制备α－Ge／SiO2多层膜 | |
| 引用本文： | 崔敬忠,彭军,张兴旺,陈光华,张仿清.射频溅射制备α－Ge／SiO2多层膜[J].兰州大学学报(自然科学版),1996(2). |
| 作者姓名： | 崔敬忠 彭军 张兴旺 陈光华 张仿清 |
| 作者单位： | 兰州大学物理系 |
| 摘 要： | 射频溅射制备α－Ｇｅ／ＳｉＯ２多层膜崔敬忠彭军张兴旺陈光华张仿清（兰州大学物理系，兰州７３００００）由于在非晶太阳能电池和半导体器件方面的重要性，α－Ｇｅ和α－ＳｉＯ２得到了深入的研究［１，２］．近年来，用共溅射的方法制备的Ｇｅ／ＳｉＯ２纳米材料由... |
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