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| 湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响 | |
| 引用本文： | 曾红军,郭履容,陈波,庞霖.湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响[J].大连理工大学学报,1997(Z2). |
| 作者姓名： | 曾红军 郭履容 陈波 庞霖 |
| 作者单位： | 四川大学信息光学研究中心 |
| 基金项目： | “九五”国家科技攻关项目,中国科学院成都光电所微细加工国家重点实验室开放课题基金 |
| 摘 要： | 湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响曾红军郭履容陈波庞霖（四川大学信息光学研究中心成都６１００６４）浮雕型全息光学元件（ＨＯＥ）在红外光学、自适应光学、光互联等领域有着广泛应用。全息记录材料曝光后，其潜像要经过显影等后处理（湿法刻蚀）才能获得浮雕。... |
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