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| 氮离子注入金刚石薄膜的研究 | |
| 引用本文： | 辛火平,石晓红.氮离子注入金刚石薄膜的研究[J].中国科学(E辑),1997,27(3):211-217. |
| 作者姓名： | 辛火平 石晓红 |
| 作者单位： | [1]中国科学院上海冶金研究所信息功能材料国家重点实验室 [2]中国科学院上海技术物理研究所红 |
| 摘 要： | 采用Ｒａｍａｎ光谱，四探针法，Ｘ射线衍射（ＸＲＤ），Ｒｕｔｈｅｒｆｏｒｄ背散射谱，Ｆｏｕｒｉｅｒ变换红外吸收光谱（ＦＴＩＲ）和Ｘ射线光电子能谱等手段研究了不同能量不同剂量的Ｎ＾＋注入对ＣＶＤ金刚石膜的结构和电学性质的影响。 |
| 关 键 词： | 氮离子注入 金刚石薄膜 Raman光谱 电学性质 |
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