| 基于磁控溅射技术沉积光伏电池用硅基薄膜材料的研究 |
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| 引用本文： | 赵志明,蒋百灵,郭伟.基于磁控溅射技术沉积光伏电池用硅基薄膜材料的研究[J].西安理工大学学报,2009,25(1). |
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| 作者姓名： | 赵志明 蒋百灵 郭伟 |
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| 作者单位： | 西安理工大学,材料科学与工程学院,陕西,西安,710048 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划)，西安理工大学科研基金 |
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| 摘 要： | 硅基薄膜太阳能电池是光伏电池领域最具有发展前景的组件.采用非平衡磁控溅射技术制备氢化硅薄膜和SiNx/Si纳米多层膜,并对其结构与性能进行了分析.结果表明,Si∶ H薄膜呈现出非晶硅和硅纳米晶颗粒复合结构;随着溅射混合气中氢气含量的增加,Si∶ H薄膜的晶化程度增强;Si∶ H薄膜的光学带隙均高于2.0eV.利用交替磁控溅射方法沉积的SiNx/Si纳米多层膜结构,其呈现出非晶相.
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| 关 键 词： | 硅薄膜 硅纳米晶 SiNx/Si纳米多层膜 磁控溅射 |
The Study of Si-Based Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering for Photovoltaic Cell |
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| ZHAO Zhi-ming,JIANG Bai-ling,GUO Wei.The Study of Si-Based Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering for Photovoltaic Cell[J].Journal of Xi'an University of Technology,2009,25(1). |
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| Authors: | ZHAO Zhi-ming JIANG Bai-ling GUO Wei |
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