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非晶硅a—Si：H膜中氢会量的深度分布研究

引用本文：	彭秀峰,周心明.非晶硅a—Si：H膜中氢会量的深度分布研究[J].四川大学学报(自然科学版),1991,28(3):325-330.

作者姓名：	彭秀峰周心明

摘要：
关键词：	氢化非晶硅薄膜氢深度分布
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