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用正电子技术研究铜板变形中的位错密度
作者姓名:
康永林 王先进
摘 要:
应用正电子湮灭-多普勒增宽技术研究了铜板在单向拉伸、平面应变和等双向拉伸变形条件下的位错密度变化规律。结果表明,当等儿应变从0.02增加到0.60时,位错密度从2.4×10^9cm^-2增加到7.5×10^10cm^-2;当等效应变量相同时,应变路径对位错密度的影响不明显。
关 键 词:
正电子湮灭 铜板 位错密度 变形
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