| 工艺参数对Ni81Fe19薄膜磁性及微结构影响 |
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| 引用本文： | 赵洪辰,于广华,金成元,苏世漳,朱逢吾.工艺参数对Ni81Fe19薄膜磁性及微结构影响[J].北京科技大学学报,2001,23(3):243-245. |
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| 作者姓名： | 赵洪辰 于广华 金成元 苏世漳 朱逢吾 |
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| 作者单位： | 1. 北京科技大学材料科学与工程学院,
2. 金亨稷师范大学物理系,朝鲜民主主义人民共和国 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;19890310; |
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| 摘 要： | 在不同本底真空和工作气压下制备了不同厚的Ni81Fe19／Ta薄膜，并进行了磁性测量和原子力显微镜分析，结果表明，较厚的薄膜，较高的本底真空和较低的工作气压下制备的薄膜有较大的各向异性磁电阻，其原因是高本底真空和低工作气压导致大晶粒度和低粗糙度，进而降低电子的散射，减小电阻R，增大ΔR/R，而较厚薄膜中，大晶粒度的作用将抵消高粗糙度的负作用，使ΔR/R值增大。
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| 关 键 词： | 各向异性磁电阻 表面粗糙度 晶粒尺寸 镍铁薄膜 磁性 微结构 工艺参数 |
| 修稿时间： | 2001年1月5日 |
Effect of Processing Parameters on Magnetism and Microstructure of Ni81Fe19 Film |
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| ZHAO Hongchen,YU Guanghua,KIM Songwon,SU Shizhang,ZHU Fengwu.Effect of Processing Parameters on Magnetism and Microstructure of Ni81Fe19 Film[J].Journal of University of Science and Technology Beijing,2001,23(3):243-245. |
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| Authors: | ZHAO Hongchen YU Guanghua KIM Songwon SU Shizhang ZHU Fengwu |
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| Keywords: | NiFe film anisotropic magnetoresistance surface roughness grain-size |
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