| 用质子激发X射线发射分析技术测量晶片表面的污染物 |
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| 引用本文： | 朱光华,卢殿通,汪新福,周宏余.用质子激发X射线发射分析技术测量晶片表面的污染物[J].北京师范大学学报(自然科学版),2001,37(5):612-614. |
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| 作者姓名： | 朱光华 卢殿通 汪新福 周宏余 |
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| 作者单位： | 北京师范大学低能核物理研究所 |
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| 基金项目： | 北京市科委科研项目;; |
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| 摘 要： | 介绍了PIXE（质子激发X射线发射）分析技术分析硅晶片表面杂质元素的探测灵敏度和最低可探测限，用此分析技术，对在几个注入机上进行的注氧硅晶片的污染情况进行了测定，发现在有的注入机上注氧时带进了Cr,Mn,Fe,Cu等污染元素，结果表明，PIXE分析技术具有高灵敏、非破坏性等优点，十分适合在这一领域的研究中应用。
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| 关 键 词： | PIXE分析 晶片 污染物 硅 器件 |
| 修稿时间： | 2001年5月17日 |
MEASUREMENT OF THE POLLUTANTS ON THE SURFACE OF CRYSTAL SLICE USING PIXE |
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| Zhu Guanghua,Lu Diantong,Wang Xinfu,Zhou Hongyu.MEASUREMENT OF THE POLLUTANTS ON THE SURFACE OF CRYSTAL SLICE USING PIXE[J].Journal of Beijing Normal University(Natural Science),2001,37(5):612-614. |
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| Authors: | Zhu Guanghua Lu Diantong Wang Xinfu Zhou Hongyu |
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| Abstract: | The analytical sensitivity and detection limit and the applications of the PIXE technique for the samples of crystal slice are presented. The crystal slices implanted with oxygen ions at different implantation machines are polluted with element Cr, Mn, Fe, Cu etc. during oxygen ion implantation. These results show that PIXE method has high sensitivity and is non-destructive for measuring pollutants, and is suitable in this research field. |
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| Keywords: | PIXE analysis crystal slice pollution |
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