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电荷掺杂和杂原子掺杂聚硅烷的比较性理论研究
引用本文:杨路清,张辉,牟宏晶,牛古丹. 电荷掺杂和杂原子掺杂聚硅烷的比较性理论研究[J]. 哈尔滨师范大学自然科学学报, 2007, 23(2): 87-90
作者姓名:杨路清  张辉  牟宏晶  牛古丹
作者单位:哈尔滨理工大学
基金项目:黑龙江省自然科学基金 , 黑龙江省高等学校骨干教师资助计划
摘    要:本文利用GAUSSIAN 03程序包中的密度泛函理论,在B3LYP/6-31G(d)水平下,对聚21硅烷、电荷掺杂的聚21硅烷以及杂原子(硼和磷)掺杂的聚21硅烷进行几何全优化,并对它们的几何结构和自旋密度进行了比较性理论研究.结果表明,电荷掺杂能使聚硅烷的Si—Si键长增长,其极子分布几乎遍及了聚21硅烷的整个链;而杂原子(B、P)的掺杂对聚硅烷的影响主要集中在与B、P原子相邻的Si原子上,极子分布仅局域在B、P原子附近的3~5个原子上.

关 键 词:聚硅烷  导电性  电荷掺杂  杂原子掺杂
修稿时间:2006-11-18

COMPARISON THEORETICAL STUDY BETWEEN THE CHARGE DOPED AND THE HETEROATOM DOPED OLIGOSILANES
Yang Luqing,Zhang Hui,Mu Hongjing,Niu Gudan. COMPARISON THEORETICAL STUDY BETWEEN THE CHARGE DOPED AND THE HETEROATOM DOPED OLIGOSILANES[J]. Natural Science Journal of Harbin Normal University, 2007, 23(2): 87-90
Authors:Yang Luqing  Zhang Hui  Mu Hongjing  Niu Gudan
Affiliation:Harbin University of Science and Technology
Abstract:
Keywords:Oligosilane  Conductivity  Charge doping  Heteroatom doping
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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