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| 软X射线投影光刻技术 | |
| 引用本文： | 王占山,曹健林.软X射线投影光刻技术[J].科技导报(北京),1997(9):9-11. |
| 作者姓名： | 王占山 曹健林 |
| 作者单位： | 中科院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室!长春，130022，中科院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室!长春，130022 |
| 摘 要： | 本世纪八九十年代大规模集成电路芯片的制造技术取得了惊人的发展，由此带来的信息革命冲击着社会的每个角落。大规模集成电路芯片制造技术的关键是光刻技术，它的进步决定着集成电路芯片制造技术的发展。在过去的十几年间，每隔3～4年集成电路就更新换代一次，这表现为集成电路中 |
| 关 键 词： | 大规模集成电路芯片 软X射线投影光刻技术 缩小倍率 分辨率 |
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