硫酸在硅抛光片清洗中的作用研究。 |
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引用本文: | 陈亚楠.硫酸在硅抛光片清洗中的作用研究。[J].天津科技,2011,38(1):41-42. |
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作者姓名: | 陈亚楠 |
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作者单位: | 中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津,300220 |
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摘 要: | 集成电路用硅片必须经严格清洗,微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除硅抛光片表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅抛光片表面。采用改进的RCA清洗工艺,通过调整预清洗工序流程,对免清洗硅抛光片进行清洗,主要解决免清洗片表面“腐蚀圈”问题,对其进行了分析。
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关 键 词: | 杂质 薄膜 颗粒 清洗 腐蚀圈 |
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