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LP-MOCVD法制备高质量InP薄膜
引用本文:陈佰军,杨树人,刘宝林,王本忠,刘式墉. LP-MOCVD法制备高质量InP薄膜[J]. 吉林大学学报(理学版), 1993, 0(2)
作者姓名:陈佰军  杨树人  刘宝林  王本忠  刘式墉
作者单位:集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 吉林大学电子科学系,长春 130023,吉林大学电子科学系,长春 130023,吉林大学电子科学系,长春 130023,吉林大学电子科学系,长春 130023,吉林大学电子科学系,长春 130023
摘    要:本文报导以国产三甲基铟(TMIn)和进口的磷烷(PH_3)为源,采用低压金属有机化合物化学气相沉积(LP-MOCVD)方法,在InP衬底上生长高质量InP的工艺条件以及外延层的电学特性和光学特性.

关 键 词:LP-MOCVD  高质量  InP

Eptaxial Growth of High Quality InP Films by LP-MOCVD
Chen Baijun,Yang Shuren,Liu Baolin,Wang Benzhong,Liu Shiyong. Eptaxial Growth of High Quality InP Films by LP-MOCVD[J]. Journal of Jilin University: Sci Ed, 1993, 0(2)
Authors:Chen Baijun  Yang Shuren  Liu Baolin  Wang Benzhong  Liu Shiyong
Abstract:The present paper reports high quality InP films grown on InP(100) substrates by LP-MOCVD from native trimethylindium (TMIn) and import phosphine (PH3). X-ray double crystal diffraction, Hall and photoluminescencs (PL) analysis indicate that the films have excellent crystalline , electrical and optical properties.
Keywords:LP-MOCVD   high quality   InP
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