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| MPCVD法金刚石薄膜的生长影响因素 | |
| 引用本文： | 芦宝娟.MPCVD法金刚石薄膜的生长影响因素[J].贵州科技工程职业学院学报,2009,4(1). |
| 作者姓名： | 芦宝娟 |
| 作者单位： | 贵州科技工程职业学院,贵州贵阳550008 |
| 摘 要： | 金刚石具有许多优异的性能，但天然金刚石的价格也比较昂贵。金刚石薄膜的各种性质与天然金刚石几乎相同，具有非常广阔的工业前景。本文采用乙醇和氢气作为工作气源，利用微波等离子体化学气相沉积法，在较低的温度下制备了金刚石薄膜，并研究了反应气压对金刚石薄膜生长的影响。 |
| 关 键 词： | 微波等离子 化学气相沉积 金刚石薄膜 乙醇 |
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