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Co、 Al共掺杂ZnO靶材溅射过程中离子与固体相互作用的模拟
引用本文:傅金彪,吴 波,张朝辉,刘海龙,韩维儒.Co、 Al共掺杂ZnO靶材溅射过程中离子与固体相互作用的模拟[J].福州大学学报(自然科学版),2010,38(4):552-556.
作者姓名:傅金彪  吴 波  张朝辉  刘海龙  韩维儒
作者单位:福州大学材料科学与工程学院, 福建 福州 350108;福州大学材料科学与工程学院, 福建 福州 350108;福州大学材料科学与工程学院, 福建 福州 350108;福州大学材料科学与工程学院, 福建 福州 350108;北京有色金属研究总院, 北京 100088
摘    要:根据随机碰撞过程中的级联碰撞原理,跟踪载能粒子在固体内的慢化过程,选用SRIM2008软件模拟了Co、Al共掺杂ZnO靶材在溅射过程中离子与固体相互作用.研究了溅射过程原子的选择性溅射现象,溅射原子的能量、角度分布情况,得出ZnO基靶材溅射过程中离子与固体相互作用的规律.欲获得成分接近Zn0.85Co0.1Al0.05O的薄膜,最佳的溅射工艺条件为:Ar+离子以68°的角度入射,靶材成分采用Zn0.7Co0.23Al0.07O.

关 键 词:ZnO    Co    Al    溅射    掺杂    离子    固体

Simulation of interaction between ions and solids in (Co, Al) co-doped ZnO sputtering target
FU Jin-biao,WU Bo,ZHANG Chao-hui,LIU Hai-long and HAN Wei-ru.Simulation of interaction between ions and solids in (Co, Al) co-doped ZnO sputtering target[J].Journal of Fuzhou University(Natural Science Edition),2010,38(4):552-556.
Authors:FU Jin-biao  WU Bo  ZHANG Chao-hui  LIU Hai-long and HAN Wei-ru
Abstract:
Keywords:ZnO  Co  Al    sputtering    doping  ion  solid
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