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GaAs中准分子激光诱导掺Zn和Si的研究
引用本文:祝亚琴,马力,任临福,石景龙,戴国瑞,张玉书.GaAs中准分子激光诱导掺Zn和Si的研究[J].吉林大学学报(理学版),1993(2).
作者姓名:祝亚琴  马力  任临福  石景龙  戴国瑞  张玉书
作者单位:吉林大学电子科学系,吉林大学电子科学系,吉林大学电子科学系,吉林大学电子科学系,吉林大学电子科学系,吉林大学电子科学系 集成光电子学国家重点联合实验室,长春 130023,集成光电子学国家重点联合实验室,长春 130023,集成光电子学国家重点联合实验室,长春 130023,集成光电子学国家重点联合实验室,长春 130023,集成光电子学国家重点联合实验室,长春 130023,集成光电子学国家重点联合实验室,长春 130023
摘    要:本文报导了用XeCl激光器实现向半绝缘GaAs衬底掺Zn的实验结果,给出了Zn原子的纵向分布以及掺杂后方块电阻与激光脉冲次数的关系曲线,同时在相同衬底上采用气体源进行了掺Si实验研究.

关 键 词:准分子激光器  掺杂  杂质剖面分布

A Study on Excimer Laser Doping of Si and Zn in GaAs
Zhu Yaqin,Ma Li,Rin Linfu,Shi Jinglong,Dai Guorui,Zhang Yushu.A Study on Excimer Laser Doping of Si and Zn in GaAs[J].Journal of Jilin University: Sci Ed,1993(2).
Authors:Zhu Yaqin  Ma Li  Rin Linfu  Shi Jinglong  Dai Guorui  Zhang Yushu
Abstract:
Keywords:excimer laser  doping  depth profiles of dopant distribution  
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
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