| 用激光干涉法分析薄膜应力 |
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| 引用本文： | 胡一贯 乐德芬. 用激光干涉法分析薄膜应力[J]. 中国科学技术大学学报, 1992, 22(2): 204-208 |
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| 作者姓名： | 胡一贯 乐德芬 |
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| 作者单位： | 中国科技技术大学物理系(胡一贯，乐德芬)，中国科技技术大学物理系(陈宁伟) |
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| 摘 要： | 本文叙述了激光干涉弯曲晶片薄膜应力测定法的原理。依据这一原理建立了薄膜应力分析系统,并实际分析了作为X射线掩模基膜的Si_3N_4膜中的应力。用Stoney公式计算出Si_3N_4膜的内应力为6.4×10~8dyn/cm~2。
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| 关 键 词： | 薄膜内应力 激光干涉 弯曲晶片法 X射线掩模 |
The Analyses of Stress in Thin Films by Laser Interference Technique |
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| Hu Yiguan Le Defen Chen Ningwei. The Analyses of Stress in Thin Films by Laser Interference Technique[J]. Journal of University of Science and Technology of China, 1992, 22(2): 204-208 |
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| Authors: | Hu Yiguan Le Defen Chen Ningwei |
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| Affiliation: | Department of Physics |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | stress in thin films Laser interference bent wafer X-ray mask |
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