| 高岭石／甲酰胺插层的^1H魔角旋转核磁共振谱 |
| |
| 作者姓名： | 王林江 吴大清 袁鹏 陈志伟 陈忠 |
| |
| 作者单位： | 1. 中国科学院广州地球化学研究所;厦门大学
2. 中国科学院广州地球化学研究所,
3. 厦门大学化学化工学院, |
| |
| 基金项目： | 本工作受国家自然科学基金(批准号:40072014)和厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室开放基金(批准号:9911)资助. |
| |
| 摘 要： | 应用高转速^1H魔角旋转核磁共振技术，区分高岭石结构中的内羟基和内表面羟基，研究高岭石／甲酰胺插层机理，内羟基质子的化学位移δ＝－1.3--0.9，内表面羟基δ－2.4-3.0，高岭石／甲酰胺插层复合物的^1H核磁共振谱出现3个质子峰，内表面羟基与甲酰胺羰基形成氢键后质子峰向高场方向位移至δ＝2.3-2.7；由于氨基质子在高岭石复三方孔洞的嵌入，在氨基质子与内羟基质子之间产生范德华效应，使内羟基质子峰向低场方向位移至δ＝－0.3，插层作用产生的附加质子峰为δ=5.4-5.6，归属于与高岭石四面体氧原子形成氢键的氨基质子。
|
| 关 键 词： | 高岭石 表面羟基 甲酰胺 插层反应机理 ^1H魔角旋转核磁共振谱 有机插层复合物 |
| 修稿时间： | 2001-07-10 |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
