| 常压化学气相沉积ZrC涂层动力学与组织结构 |
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| 引用本文： | 郑湘林,李国栋,熊翔,孙威.常压化学气相沉积ZrC涂层动力学与组织结构[J].中南大学学报(自然科学版),2011,42(7). |
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| 作者姓名： | 郑湘林 李国栋 熊翔 孙威 |
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| 作者单位： | 中南大学粉末冶金国家重点实验室,湖南长沙,410083 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(“973”计划)项目，国家自然科学基金委员会创新研究群体科学基金资助项目，国家自然科学基金资助项目，中国博士后基金资助项目 |
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| 摘 要： | 以ZrCl4-CH4-H2-Ar为反应体系,采用常压化学气相沉积(APCVD)法在1 473～1 873 K制备ZrC涂层,用X线衍射和扫描电镜分析涂层的相成分、ZrC晶粒择优生长及微观形貌,研究ZrC涂层沉积动力学和涂层组织结构.研究结果表明:随沉积温度的升高,APCVD ZrC涂层的沉积速率增大,ZrC微晶表观尺寸也相应增大;1 473～1 673 K沉积时,化学气相沉积过程的表观活化能为71.69 kJ/mol,沉积过程由化学动力学控制;1 673～1 873 K沉积时,过程的表观活化能为14.28 kJ/mol,沉积过程由扩散控制.沉积温度由1 473 K上升至1 673 K时,ZrC晶粒的择优生长取向出〈220〉转变为〈200〉,ZrC涂层组织为典型的针状晶结构,涂层较疏松、粗糙;1 873 K沉积时,ZrC晶粒呈短柱状,ZrC涂层致密平整,且沉积速率最高.
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| 关 键 词： | 化学气相沉积 碳化锆 沉积动力学 组织结构 |
Deposition kinetics and microstructure of APCVD ZrC coating |
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| ZHENG Xiang-lin,LI Guo-dong,XIONG Xiang,SUN Wei.Deposition kinetics and microstructure of APCVD ZrC coating[J].Journal of Central South University:Science and Technology,2011,42(7). |
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| Authors: | ZHENG Xiang-lin LI Guo-dong XIONG Xiang SUN Wei |
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