2和4混水平U-型设计在可卷L_2-偏差下的下界 |
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引用本文: | 雷轶菊.2和4混水平U-型设计在可卷L_2-偏差下的下界[J].北京教育学院学报(自然科学版),2016(1):1-4. |
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作者姓名: | 雷轶菊 |
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作者单位: | 新乡学院数学与信息科学学院,河南新乡,453003 |
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摘 要: | 可卷L_2-偏差已被广泛地应用于评价部分因子设计的均匀性.研究了具有2和4混水平的非对称设计在可卷L_2-偏差下偏差值的下界,它可以作为寻找可卷L_2-偏差下具有2和4混水平的非对称U-型均匀设计的一个基准.
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关 键 词: | 2和4混水平 U-型设计 可卷L2-偏差 下界 |
Lower Bound for Wrap-around-discrepancy on Two and Four Mixed Level Factorials |
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