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2和4混水平U-型设计在可卷L_2-偏差下的下界
引用本文:雷轶菊.2和4混水平U-型设计在可卷L_2-偏差下的下界[J].北京教育学院学报(自然科学版),2016(1):1-4.
作者姓名:雷轶菊
作者单位:新乡学院数学与信息科学学院,河南新乡,453003
摘    要:可卷L_2-偏差已被广泛地应用于评价部分因子设计的均匀性.研究了具有2和4混水平的非对称设计在可卷L_2-偏差下偏差值的下界,它可以作为寻找可卷L_2-偏差下具有2和4混水平的非对称U-型均匀设计的一个基准.

关 键 词:2和4混水平  U-型设计  可卷L2-偏差  下界

Lower Bound for Wrap-around-discrepancy on Two and Four Mixed Level Factorials
Abstract:
Keywords:
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