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GaInP2/GaAs/Ge级联电池隧道结的结构设计及金属有机化学汽相淀积生长研究
引用本文:王晋国 李晓婷 魏俊波. GaInP2/GaAs/Ge级联电池隧道结的结构设计及金属有机化学汽相淀积生长研究[J]. 陕西师范大学学报(自然科学版), 2005, 33(2): 37-39
作者姓名:王晋国 李晓婷 魏俊波
作者单位:长安大学理学院,长安大学理学院,长安大学理学院 陕西西安710061,陕西西安710061,陕西西安710061
基金项目:国家自然科学基金资助项目(2040174032),长安大学科研基金资助项目(2004J01)
摘    要:采用国产的低压金属有机化学汽相淀积(LP MetalOrganicChemicalVaporDeposition,简写为LP MOCVD)设备,生长了GaInP2/GaAs/Ge双结级联电池隧道结,分析了隧道结结构的设计原理.利用霍耳测试仪、X射线双晶衍射仪、二次离子质谱仪,对隧道结的重掺杂和互扩散特性进行了研究.结果表明,在生长温度为600℃,H2Se流量为3mL/min及隧道结N型层掺杂剂选用Se的条件下,可得到电子浓度为5×1019cm-3;而采用自掺C(通过不断改变五族元素与三族元素之比)可得到P型载流子浓度为1017~1021cm-3的GaAs隧道结.说明该生长方法可获得电池隧道结中高掺杂水平的PN结,并且能够达到抑制掺杂杂质互扩散现象的设计要求.

关 键 词:GaAs  隧道结  掺杂
文章编号:1672-4291(2005)02-0037-03
修稿时间:2005-01-12

Metal organic chemical vapor deposition growth and structure design of tunnel junction of GaInP2/GaAs/Ge tandem solar cells
WANG Jin-guo,LI Xiao-ting,WEI Jun-bo. Metal organic chemical vapor deposition growth and structure design of tunnel junction of GaInP2/GaAs/Ge tandem solar cells[J]. Journal of Shaanxi Normal University: Nat Sci Ed, 2005, 33(2): 37-39
Authors:WANG Jin-guo  LI Xiao-ting  WEI Jun-bo
Abstract:
Keywords:GaAs  tunnel junction  doping
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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