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基于SIMOX材料的可集成高压器件研究
引用本文:赵川,卓碧华.基于SIMOX材料的可集成高压器件研究[J].西南民族学院学报(自然科学版),2009,35(3).
作者姓名:赵川  卓碧华
作者单位:武警成都指挥学院,四川成都 
摘    要:通过增加一次高压注入, 对0.8μm SOI CMOS工艺平台进行智能电压扩展. 在SIMOX材料上设计并实现了兼容该工艺的横向高压器件, 实现了低压CMOS与高压LDMOS的单片集成. 在硅膜厚度为205nm、埋氧层厚度为375nm的SIMOX材料上, 研制出阈值电压、击穿电压分别为1.3V、38V的高压LDMOS. 此高低压兼容SOI技术可将高低压器件单片集成, 节约了芯片成本, 提高了可靠性.

关 键 词:辐射  高压

Integrated high voltage LDMOS on SIMOX Wafer
ZHAO Chuan,ZHUO Bi-hua.Integrated high voltage LDMOS on SIMOX Wafer[J].Journal of Southwest Nationalities College(Natural Science Edition),2009,35(3).
Authors:ZHAO Chuan  ZHUO Bi-hua
Abstract:
Keywords:SOI  SIMOX  LDMOS
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