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ZnS薄膜的电沉积及表征
引用本文:翁晴,程树英. ZnS薄膜的电沉积及表征[J]. 福州大学学报(自然科学版), 2008, 36(1): 73-76
作者姓名:翁晴  程树英
作者单位:1. 福州大学食品安全分析与检测教育部重点实验室,化学化工学院,福建,福州,350002
2. 福州大学食品安全分析与检测教育部重点实验室,化学化工学院,福建,福州,350002;福州大学物理与信息工程学院,福建,福州,350002
基金项目:福建省自然科学基金 , 福建省科技三项项目
摘    要:利用恒电位电沉积技术实现在ITO导电玻璃上沉积ZnS薄膜,用X射线粉末衍射、扫描电镜、原子力显微镜和X射线光电子能谱对制得的薄膜进行了研究.实验表明,用该方法制得的薄膜样品的主要成分是α-ZnS,薄膜表面均匀、致密和平整,平均粗糙度为3.112 nm,颗粒的粒径大约为50~100 nm.该薄膜中Zn原子和S原子化合价分别为+2价和-2价,原子个数比接近于1∶1,没有探测到单质元素(Zn或S)沉积.

关 键 词:ZnS薄膜  电沉积  XRD  SEM  AFM  XPS
文章编号:1000-2243(2008)01-0073-04
修稿时间:2007-05-08

Electrodeposition and characterization of ZnS thin films
WENG Qing,CHENG Shu-ying. Electrodeposition and characterization of ZnS thin films[J]. Journal of Fuzhou University(Natural Science Edition), 2008, 36(1): 73-76
Authors:WENG Qing  CHENG Shu-ying
Affiliation:1,2(1.Ministry of Education Key Laboratory of Analysis and Detection Technology for Food Safety,College of Chemistry and Chemical Engineering,Fuzhou University,Fuzhou,Fujian 350002,China;2.College of Physics and Information Engineering,Fuzhou University,Fuzhou,Fujian 350002,China)
Abstract:
Keywords:ZnS film  electro deposition  XRD  SEM  AFM  XPS
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