| 沉积速率对HfO_2薄膜应力和光学特性的影响 |
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| 引用本文： | 齐瑞云,吴福全,郝殿中,王庆,吴闻迪.沉积速率对HfO_2薄膜应力和光学特性的影响[J].曲阜师范大学学报,2010,36(4). |
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| 作者姓名： | 齐瑞云 吴福全 郝殿中 王庆 吴闻迪 |
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| 作者单位： | 山东省激光偏光与信息技术重点实验室,曲阜师范大学激光研究所,273165,山东省曲阜市 |
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| 摘 要： | 利用电子枪蒸镀法制备了HfO2薄膜,控制沉积速率分别为3.3/s、5.5/s和9.6/s.利用ZGYO干涉仪、UV3101-PC分光光度计、D/Max-ⅢA型X射线衍射仪和JSM-6700F冷场发射扫描电镜对样品进行了测试.结果表明:在本实验条件下制备的HfO2薄膜都是非晶态结构.样品的残余应力与本征应力变化趋势相同,都随沉积速率的加快先增后减,沉积速率为3.3/s时应力最小.不同沉积速率下制备样品的折射率都是正常色散,3.3/s沉积的样品色散较小并且有较好的表面平整度.这些结果为制备高性能HfO2薄膜提供参考.
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| 关 键 词： | 薄膜 应力 沉积速率 微结构 折射率 |
Influence of Deposition Rates on Hafnium Dioxide Film Stress and Optical Properties |
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| QI Rui-yun,WU Fu-quan,HAO Dian-zhong,WANG Qing,WU Wen-di.Influence of Deposition Rates on Hafnium Dioxide Film Stress and Optical Properties[J].Journal of Qufu Normal University(Natural Science),2010,36(4). |
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| Authors: | QI Rui-yun WU Fu-quan HAO Dian-zhong WANG Qing WU Wen-di |
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