|
|||||
|
|
| 迈进二十一世纪的集成电路 | |
| 引用本文： | 吴德馨. 迈进二十一世纪的集成电路[J]. 世界科技研究与发展, 1999, 21(4): 1-9 |
| 作者姓名： | 吴德馨 |
| 作者单位： | 中国科学院微电子中心,北京,100029 |
| 摘 要： | 文章讨论了进入二十一世纪微电子科学技术所面临的诸多问题：超微细加工新技术，高电导率金属和低介电常数介质的互连技术，SiCMOS工艺的限制以及GaAs集成电路的崛起等。 |
| 关 键 词： | 超微细加工 铜互连 CMOS工艺 GaAs电路 集成电路 |
The Integrated Circuit in The 21st Century |
|
| Wu Dexin. The Integrated Circuit in The 21st Century[J]. World Sci-tech R & D, 1999, 21(4): 1-9 | |
| Authors: | Wu Dexin |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ | |