| 微光学元件芯模的光刻工艺研究 |
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| 引用本文： | 李平贵,龚勇清,何兴道,刘智怀,张贵红.微光学元件芯模的光刻工艺研究[J].中国西部科技,2008,7(6):10-12. |
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| 作者姓名： | 李平贵 龚勇清 何兴道 刘智怀 张贵红 |
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| 作者单位： | 南昌航空大学,自动化学院,江西,南昌,330063 |
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| 摘 要： | 光刻法作为微光学元件的主要生产工艺，如何提高光刻加工工艺已经成为一个日益紧迫的问题，本文使用北京化学试剂研究所生产的BP-215系列紫外正型光刻胶，以分辨率板直接作为参考对象来判别光刻工艺的分辨率，并且在优化各控制变量的前提下，得出最佳工艺参数并对噪声进行分析。
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| 关 键 词： | 微光学 分辨率 光刻胶 最佳参数 |
| 修稿时间： | 2008年2月13日 |
Research on the Method of Micro-optical Elements Mask Fabricated by Lithography Technology |
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| LI Ping-gui,GONG Yong-qing,HE Xing-dao,LIU Zhi-huai,ZHANG Gui-hong.Research on the Method of Micro-optical Elements Mask Fabricated by Lithography Technology[J].Science and Technology of West China,2008,7(6):10-12. |
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| Authors: | LI Ping-gui GONG Yong-qing HE Xing-dao LIU Zhi-huai ZHANG Gui-hong |
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| Institution: | (College of Automation, Nanchang Hangkong University, Nanchang, Jiangxi 330063, China) |
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| Abstract: | AS a major method to produce micre-optical elements,how to improve the lithography technology is becoming more and more important.This paper used the BP-210 series UV photoresist which bought from Beijing Institute of Chemical Reagents,take the resolution plate as a reference object,on the premise of all controlled variables being optimized,distinguishing the resolution of lithography technology,then get The optimum process parameters and noise analysis |
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| Keywords: | Micre-optical Resolution Photoresist The optimum parameter |
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